Preparation of new polyorganosiloxane acrylate and the properties of UV-cured acrylate compositions containing it

H. Liu; M. Chen; K. Xu; Z. Wang

Data publikacji : 2022-09-01

Tom 49 Nr 6 (2004)

Otrzymywanie nowego akrylanu poliorganosiloksanowego i właściwości zawierających go kompozycji akrylanowych utwardzanych promieniowaniem UV

H. Liu M. Chen K. Xu Z. Wang

Abstrakt

W wyniku reakcji addycji Michaela z udziałem modyfikowanego cykloheksyloaminą poliorganosiloksanu z końcowymi grupami metylowymi (MCAPS) oraz diakrylanu heksanodiolu (HDDA) otrzymano nowy akrylan poliorganosiloksanowy - POSA [równanie (1)|. Metodami 1H NMR (rys. 1) oraz FT-IR potwierdzono przebieganie reakcji grup N-H MCAMPS z grupami akrylowymi HDDA. Związek ten użyto do modyfikacji układu epoksydowo-akrylowego (HDDA + akrylan butylu + żywica diakrylanowo-epoksydowa) utwardzanego pod wpływem promieniowania UV. Stwierdzono, że już niewielka zawartość POSA (1-1,5 % mas.) powoduje bardzo istotne zmiany właściwości powierzchniowych utwardzonych powłok. Mianowicie, zwiększa się kąt zwilżania (rys. 2) i jego histereza (rys. 4) oraz oporność powierzchniowa, maleje połysk (tabela 1), natomiast końcowa twardość nie ulega zmianie (rys. 5). Metodą rentgenograficzną (XDS) wykazano, że POSA koncentruje się selektywnie na powierzchni utwardzonych powłok (rys. 3).

Słowa kluczowe

akrylan poliorganosiloksanowy ; układy epoksydowo-akrylanowe ; modyfikacja ; utwardzanie UV ; właściwości powierzchniowe ; zwilżalność polyorganosiloxane acrylate ; epoxy-acrylic systems ; modification ; UV curing ; surface properties ; wettability

Szczegóły

Bibliografia

Wskaźniki

Autorzy

Pobierz pliki

PDF (English)

Zasady cytowania

Liu, H., Chen, M., Xu, K., & Wang, Z. (2022). Otrzymywanie nowego akrylanu poliorganosiloksanowego i właściwości zawierających go kompozycji akrylanowych utwardzanych promieniowaniem UV. Polimery, 49(6), 404–407. Pobrano z https://polimery.ichp.vot.pl/index.php/p/article/view/1766

Bibliografia

Burak L.: J. Coat. Tech. November 1997, 69, No, 874, 29.

2. Golden R.:J. Coat. Tech. 1997, 69, No. 871, 83. 3.

3. Yu Q, Nauman §,, Santerre J. P., Zhu S. J. Appl. Polym, Sci. 2001, 82, 1107.

4. Dvorehak M. J., Riberi B. H: J. Coat. Tech. 1992, 64, No. 808, 43,

5. Decker Ch., Moussa K. J. Coat, Tech. 1993, 65, No. 819,49.

6. Priow C., Soldat A., Cavezzan J J. Coat. Tech. 1995, 67,71

7. Bongiovanni R,, Malucelli G., Messori M., Pilati F,, Priola A., Tonelli C,, Toselli M.: J. Appl. Polym. Sci. 2000, 75, 651

8. Bowling K., Adams J., Struck S: J. Coat. Tech. 1996, 68, No, 854, 91.

9. Idriss K, M,, Mubrak A. K,, Mokhlesur R,, Mahmuda G.: J. Appl. Polym. Sci. 1997, 66, 1997.

10. Davidson R. S,, Ellis R,, Tudor S,, Wilkinson 5. A. Polymer 1992, 33, 3031.

11. Batten R. J., Davidson R, S., Ellis R. J., Wilkinson S. A.: Polymer 1992, 33, 3037.

12. Liu H,, Chen M., Zhang X., He'T., Wang Z.: Polimery 2004, 49, 168,

13. Sun ¥.P,, Zheng C. R.: Re Gu Xing Shu Zhi 1999,3,16.

Remove 1. Burak L.: J. Coat. Tech. November 1997, 69, No, 874, 29.

2. Golden R.:J. Coat. Tech. 1997, 69, No. 871, 83. 3.

3. Yu Q, Nauman §,, Santerre J. P., Zhu S. J. Appl. Polym, Sci. 2001, 82, 1107.

4. Dvorehak M. J., Riberi B. H: J. Coat. Tech. 1992, 64, No. 808, 43,

5. Decker Ch., Moussa K. J. Coat, Tech. 1993, 65, No. 819,49.

6. Priow C., Soldat A., Cavezzan J J. Coat. Tech. 1995, 67,71

7. Bongiovanni R,, Malucelli G., Messori M., Pilati F,, Priola A., Tonelli C,, Toselli M.: J. Appl. Polym. Sci. 2000, 75, 651

8. Bowling K., Adams J., Struck S: J. Coat. Tech. 1996, 68, No, 854, 91.

9. Idriss K, M,, Mubrak A. K,, Mokhlesur R,, Mahmuda G.: J. Appl. Polym. Sci. 1997, 66, 1997.

10. Davidson R. S,, Ellis R,, Tudor S,, Wilkinson 5. A. Polymer 1992, 33, 3031.

11. Batten R. J., Davidson R, S., Ellis R. J., Wilkinson S. A.: Polymer 1992, 33, 3037.

12. Liu H,, Chen M., Zhang X., He'T., Wang Z.: Polimery 2004, 49, 168,

13. Sun ¥.P,, Zheng C. R.: Re Gu Xing Shu Zhi 1999,3,16.

1/2 languages completed
Google Scholar

Supporting Agencies
Google Scholar

Cytowania w Google Scholar

Statystyki

Total abstract views : 0

PDF Downloads : 0

H. Liu

Afiliacja
Chinese Academy of Sciences, Institute of Chemistry, Beijing 100080, People's Republic of China

M. Chen mcchen@mail.gic.ac.cn

Afiliacja
Chinese Academy of Sciences, Guangzhou Institute of Chemistry, Guangzhou 510650, People's Republic of China

K. Xu

Afiliacja
Chinese Academy of Sciences, Guangzhou Institute of Chemistry, Guangzhou 510650, People's Republic of China

Z. Wang

Afiliacja
Chinese Academy of Sciences, Guangzhou Institute of Chemistry, Guangzhou 510650, People's Republic of China