Język Polski
English
Data publikacji
: 2022-09-19
Zastosowanie metody FT-IR i pomiaru twardości metodą nanoindentacji do badania przebiegu fotosieciowania żywicy poliestrowej
Abstrakt
Postęp reakcji fotosieciowania w cienkiej warstwie (1,0-3,5 (-im) żywicy poliestrowej (PES) zbadano metodami FT-IR i pomiaru twardości (nanoindentacja). Zgodnie z oczekiwaniami stwierdzono zależność twardości powłoki od czasu naświetlania (rys. 3). Metodą FT-IR potwierdzono, że sieciowanie żywicy zachodzi według mechanizmu polegającego na kopolimeryzacji oligoestru ze styrenem. Otrzymano bardzo dobrą korelację pomiędzy wynikami spektroskopowymi (FT-IR) a uzyskanymi na podstawie nanoindentacji (rys. 5). Wskazano na istnienie powierzchniowego gradientu usieciowania, niemożliwego do zbadania konwencjonalnymi metodami pomiaru twardości; gradient ten może mieć daleko idące konsekwencje z punktu widzenia trwałości materiałów i powłok polimerowych.
Szczegóły
Wskaźniki
Autorzy
Zasady cytowania
Bieliński, D., Głąb, P., & Ślusarski, L. (2022). Zastosowanie metody FT-IR i pomiaru twardości metodą nanoindentacji do badania przebiegu fotosieciowania żywicy poliestrowej. Polimery, 46(7-8), 494–500. Pobrano z https://polimery.ichp.vot.pl/index.php/p/article/view/2099
